专利摘要:
本発明は、硬質材料で被覆され、CVDによって塗布された数層を含む物体に関する。Ti1−xAlxN層および/またはTi1−xAlxC層および/またはTi1−xAlxCN層の上に外層としてのAl2O3層が配置される。
公开号:JP2011516722A
申请号:JP2010550049
申请日:2009-01-20
公开日:2011-05-26
发明作者:ヴェストファル ハルトムート;ゾットケ フォルクマー;ファン;デン;ベルク ヘンドリクス
申请人:ケンナメタル インコーポレイテッドKennametal Inc.;
IPC主号:C23C16-30
专利说明:

[0001] 本発明は、硬質材料で被覆され、CVDによって塗布された複数の硬質材料層を有する物体に関する。]
背景技術

[0002] 切削機械加工に使用される切削工具は、特に、高切削速度における旋削による焼き戻しまたは焼き入れされた鋼などの硬質または強靱な材料の切削機械加工において、安定性および強度に関して厳しい要求に適合させる必要がある。切削工具の材料は、特に、摩耗抵抗性であるべきであり、そのため従来は、超硬合金またはサーメット基材の本体に、最初にチタンの炭化物、窒化物、または炭窒化物、その後で酸化アルミニウム層をも摩耗保護被膜として使用する表面被膜が設けられていた。異なる硬質材料で構成される多層摩耗保護被膜も公知である。たとえば、炭窒化チタンまたは窒化チタンなどの1つ以上の中間層上に配置された酸化アルミニウム層が、摩耗軽減被膜として公知である。]
[0003] 国際公開第03/085152A2号パンフレットには、PVDによって最大60%のアルミニウム含有率を有する単相層として製造可能なTi−Al−N層の使用が開示されている。しかし、より高いアルミニウム含有率では、立方晶および六方晶のTiAlNの混合物が形成され、さらに高いアルミニウム含有率では、より軟質であり耐摩耗性ではない六方晶ウルツ鉱構造が形成される。]
[0004] プラズマCVDによって、x=0.9である単相Ti1−xAlx−N硬質材料層を製造可能であることも公知である。しかし、層の組成の不十分な均一性、および層の比較的高い塩素含有率が欠点である。]
[0005] Ti1−xAlxN硬質材料層の製造にPVD法またはプラズマCVD法が使用される場合、これらの層の使用は700℃未満の温度に制限される。複雑な部材形状の被膜によって問題が生じることが欠点の1つである。PVDは、複雑な形状が不規則に被覆される指向性のあるプロセスである。プラズマCVDでは、プラズマ出力密度が層のTi/Al原子比に直接影響を与えるため、高いプラズマ均一性が必要となる。工業的に使用されるPVD法によって高アルミニウム含有率の単相立方晶Ti1−xAlx−N層を製造することは不可能である。]
[0006] 1000℃を超える温度における従来のCVD法によるTiAlの堆積もまた、このような高温では準安定状態のTi1−xAlxNは分解してTiNおよび六法晶AlNになるため、不可能である。]
[0007] 最後に、プラズマ補助を使用せずに550℃〜650℃の範囲内の温度における熱CVD法によってxが0.1〜0.6の範囲内であるTi1−xAlxN層を製造するための米国特許第6,238,739B1号明細書に記載される方法では、x≦0.6の比較的低いアルミニウム含有率に制限されることが示されている。この文献に記載の方法では、塩化アルミニウムおよび塩化チタン、ならびにNH3およびH2も気体混合物として使用される。この被膜の場合もまた、最大12原子%の高塩素含有率を許容する必要がある。]
[0008] 耐摩耗性および耐酸化性を改善するために、国際公開第2007/003648A1号パンフレットでは、CVDによって、硬質材料で被覆され、少なくとも1つのTi1−xAlxN硬質材料層を含有する単層または多層の被膜系を有する物体の製造が提案されており、その目的は、反応器中、プラズマ励起を使用せずにCVDによって、700℃〜900℃の温度で物体を被覆し、高温で混合されるハロゲン化チタン、ハロゲン化アルミニウム、および反応性窒素化合物を前駆体として使用することである。これによって、立方晶NaCl構造および0.75より高く0.93までの化学量論係数xを有する単相Ti1−xAlxN硬質材料層を有する物体、あるいは、主相として立方晶NaCl構造および0.75より高く0.93までの化学量論係数xを有するTi1−xAlxNと、さらに別の相としてウルツ鉱構造および/またはTiNxNaCl構造とを含む多相層を有する物体が得られる。塩素含有率は0.05〜0.9原子%の範囲内である。この文献から、Ti1−xAlxN硬質材料の1つ以上の層が、最大30質量%の非晶質層成分を含有できることも知られている。得られる層の硬度は2500HV〜3800HVの範囲内である。]
[0009] 高耐摩耗性においてTi1−xAlxN硬質材料層の付着を改善するために、先行公報ではない独国特許第10 2007 000 512号明細書においても、基材本体に塗布される層系が、本体に塗布される窒化チタン、炭窒化チタン、または炭化チタンの接合層、続いて相勾配層、最後に単相または多相のTi1−xAlxN硬質材料層の外層を含むことが提案されている。相勾配層は、その接合層に面する側において、TiN/h−AlN相混合物を含み、層厚さが増加するとともに、fcc−TiAlN相の比率が50%を超える比率で増加し、これと関連して、同時にTiN相およびh−AlN相の比率が減少する。]
[0010] 超硬合金、サーメット、または基材本体の上の層の摩耗抵抗性および耐酸化性とは別に、被膜の熱安定性が、特に高切削速度での切削機械加工におけるこの材料の使用において非常に重要となる。硬質の工作物の旋削中に切削インサートの切刃の領域内で1000℃よりはるかに高い温度が発生する。このような温度では、個別の層の間の複数の基材の膨張係数が異なることで、重大な結果が生じる。個別の層の間に応力が発生し、外層から基材本体への熱伝導によって高温が輸送されると、最も望ましくない場合には、被膜の剥離が生じ、そのため切削インサートが使用できなくなる。]
発明が解決しようとする課題

[0011] したがって、本発明の課題は、硬質材料で被覆された物体であって、その被膜が、個別の層の選択の結果として、熱輸送に関してより良い断熱効果を有する物体を提供することである。]
課題を解決するための手段

[0012] 前記課題は、請求項1に記載の硬質材料で被覆された物体によって解決される。この硬質材料で被覆された物体は、複数の層を有し、Ti1−xAlxN層および/またはTi1−xAlxC層および/またはTi1−xAlxCN層(式中、xは0.65〜0.95である)の上に外層としてAl2O3層が配置されている。]
実施例

[0013] 従来技術において一般に使用されているTiCN層の代わりにTi1−xAlxN層、Ti1−xAlxC層、またはTi1−xAlxCN層を使用すると、Al2O3層の下に配置された層の熱伝導率は約80%低いため、Ti1−xAlxN層、Ti1−xAlxC層、または−CN層によって、基材本体に対してはるかに優れた断熱性が得られるという利点が得られる。外部のAl2O3層は、TiCN外層と比較してより耐酸化性であり、約50%硬質でもあるため、より高い耐摩耗性が得られる。]
[0014] さらに、意外なことに、中間層としてのTi1−xAlxN層、Ti1−xAlxC層、または−CN層は、TiNまたはTiCNの中間層と比較するとクラックの問題が生じる傾向がないため、従来技術により得られる不都合で典型的なクラックの網目が形成されないことが分かった。特に断続切削の場合、改善された亀裂抵抗性のために、動作寿命が延長される。]
[0015] Ti1−xAlxCN層、Ti1−xAlxC層、またはTi1−xAlxN層は、単相からなり立方晶構造を有することができるし、あるいは、複数の相からなり、立方晶の主相に加えてウルツ鉱構造を有する、および/またはTiNで構成されるさらに別の層を有することもできる。非晶質層成分が最大30質量%で存在することができる。塩素含有率は0.01〜3原子%の範囲内である。]
[0016] 本発明のさらに別の一実施形態においては、TiN相および/またはTiCN層は、超硬合金、サーメット、またはセラミックからなる基体本体への接合層として使用することができ、それによって内側から外側への層の順序は、TiN−またはTiCN−TiAlC(N)−Al2O3となる。]
[0017] 本発明の目的のためには、TiCN層は、Al2O3外層と、Ti1−xAlxN層、Ti1−xAlxC層、またはTi1−xAlxCN層との間に存在することもできる。]
[0018] 金属として計算したアルミニウムの比率は、好ましくは70%〜90%である。Ti1−xAlxN層、Ti1−xAlxC層、またはTi1−xAlxCN層の厚さは2μm〜10μmの範囲内、好ましくは3μm〜7μmの範囲内で変動させることができる。上記層は、25%以下の比率の六方晶窒化アルミニウムを含有することもできる。]
[0019] 本発明の目的のためには、1つの中間層の代わりに、(Ti1−xAlxN、Ti1−xAlxC、Ti1−xAlxCN)n(式中、nは自然数である)の種類の1つ以上の二重層または三重層で構成される多層中間層を有することも可能である。次に、TiAlN/TiAlCN/TiAlCが交互に配置された層は、1nm〜5nmの範囲内である個別の層のそれぞれの厚さの合計で与えられる全体の厚さを有する。全体の厚さは、好ましくは1μm〜5μmとなるべきである。最も単純な場合では、わずか数nmの厚さを有するTi1−xAlxNまたはTi1−xAlxCNまたはTi1−xAlxCの薄い個別の層が、1μm〜5μmの範囲内の所望の全体厚さが達成されるまで連続して塗布される。しかし、上記組成で構成される交互層系を有し、外側に向かう方向でCの比率が減少または増加する勾配を有する副層を有する層を含むことも可能である。]
[0020] TiAlN層、TiAlC層、またはTiAlCN層は、最大30%の非晶質成分を含有することができ、最大3原子%の塩素含有率を有することができる。]
[0021] 被覆された物体を製造するために、超硬合金、サーメット、またはセラミックからなる基体本体は、650℃〜900℃の範囲内の被覆温度においてCVD被覆が行われ、塩化チタンおよび塩化アルミニウム、ならびにアンモニアもガス雰囲気中に導入されることで、TiAlN層が形成される。2μm〜10μmの範囲内、好ましくは3μm〜7μmの範囲内の厚さを有する第1の層が形成された後、少なくとも2μmであり10μm以下の厚さを有するAl2O3層が、CVD法によって従来の方法で塗布される。]
权利要求:

請求項1
硬質材料で被覆され、CVDによって塗布された複数の層を有する物体であって、Ti1−xAlxN層および/またはTi1−xAlxC層および/またはTi1−xAlxCN層(式中、xは0.65〜0.95である)の上にAl2O3層が外層として配置されていることを特徴とする、硬質材料で被覆された物体。
請求項2
超硬合金、サーメット、またはセラミックからなる基体本体に対する接合層としてのTiN層および/またはTiCN層を特徴とする、請求項1に記載の硬質材料で被覆された物体。
請求項3
前記Al2O3外層と、前記Ti1−xAlxN層、Ti1−xAlxC層、またはTi1−xAlxCN層との間にTiCN層が配置されていることを特徴とする、請求項1または2に記載の硬質材料で被覆された物体。
請求項4
Ti1−xAlxN層、Ti1−xAlxC層、またはTi1−xAlxCN層のxが0.7≦x≦0.9であることを特徴とする、請求項1から3までのいずれか一項に記載の硬質材料で被覆された物体。
請求項5
(Ti1−xAlxN、Ti1−xAlxCN、Ti1−xAlxC)nの群からの1つ以上の二重層または三重層で構成される多層中間層がAl2O3層の下に配置されていることを特徴とする、請求項1から4までのいずれか一項に記載の硬質材料で被覆された物体。
請求項6
前記外層の厚さが1μm〜5μmの範囲内であり、前記Ti1−xAlxN層、Ti1−xAlxC層、またはTi1−xAlxCN層の厚さが1μm〜5μmであり、任意のさらなる接合層または中間層の厚さが1μm〜5μmの範囲内であることを特徴とする、請求項1から5までのいずれか一項に記載の硬質材料で被覆された物体。
請求項7
前記Ti1−xAlxN層、Ti1−xAlxC層、またはTi1−xAlxCN層が最大25%の六方晶AlNを含有することを特徴とする、請求項1から6までのいずれか一項に記載の硬質材料で被覆された物体。
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